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卷對卷工序中鋁箔的處理
由于它們很小的厚度，在等離子體應用中薄膜是特別關鍵的。因為它們的的高傳導性，盡管金屬和溫度通常沒有問題，由于它們沒有導熱層，薄膜必須非常小心地被處理。 一定質量的金屬能緩慢地以30 mm / s的速度被處理，而箔片必須以500 mm / s或更高的速度處理。
 
卷對卷是這樣一個工序的實例，每個薄膜必須以非常高的速度被處理，只能瞬間地離開使等離子體粒子與表面相互作用。 在這些條件下實現高質量的活化是一個真正的挑戰(zhàn)。 可是，合適的設備布置仍然允許成功的實施。 從上方的圖片可以看出，在這個實例中三個等離子體發(fā)生器被串聯設置，以覆蓋薄箔的膠粘表面的全部的寬度。
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